硅元素在TiAl合金熔模铸造界面反应中的扩散行为

来源 :第十五届全国钛及钛合金学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aa283488665
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通过在TiAl合金熔模铸造用陶瓷型壳ZrO2面层中添加纯Si元素粉末,研究Ti-46Al和Ti-46Al-7Nb两种合金与纯ZrO2面层与含有Si面层的反应界面.结果表明:4种界面的界面反应扩散层的厚度都约为200μm,但是Si元素的扩散能力远大于Zr的,并与Ti发生反应,可见最深处的反应物离界面约为50μm.
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