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会议论文
AlAs氧化层的Raman研究
AlAs氧化层的Raman研究
来源 :第六届全国分子束外延学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Gsea
【摘 要】
:
为了理解AlAs氧化层热稳定性、重复性差的机制,找到合适的氧化方法来得到高质量的AlAs层,本文对不氧化、刚氧化完和延长时间氧化的样品进行了Raman分析,通过实验发现适当延长
【作 者】
:
王文冲
贾海强
陈弘
【机 构】
:
凝聚态物理中心,中国科学院物理研究所(北京)
【出 处】
:
第六届全国分子束外延学术会议
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
挥发性氧化物
热稳定性
氧化时间
氧化方法
延长时间
重复性
氧化膜
氧化层
残余物
质量
样品
实验
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为了理解AlAs氧化层热稳定性、重复性差的机制,找到合适的氧化方法来得到高质量的AlAs层,本文对不氧化、刚氧化完和延长时间氧化的样品进行了Raman分析,通过实验发现适当延长氧化时间,可有助于As、As<,2>O<,3>等可挥发性氧化物残余物逸出得到了热稳定性的AlAs氧化膜.
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