【摘 要】
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半导体晶面工程在增强光催化活性方面起到重要作用而引起关注,晶面影响光催化活性的根源值得深入研究.探讨单一晶面半导体光催化性能与暴露晶面之间的关系,从表面缺陷、内电场、表面原子结构和表面电子结构等方面揭示了半导体光催化剂形貌的变化导致性能的改变,利用晶面工程来指导设计更高性能的光催化剂方面具有重要的理论与现实意义，为合成优质光催化性能的光催化剂提供强有力的理论依据。
【机 构】
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国家铜铅锌及制品质量监督检验中心,安徽铜陵244000;国家印制电路板质量监督检验中心(安徽),安徽铜陵244000
【出 处】
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第十三届全国工业催化技术及应用年会
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半导体晶面工程在增强光催化活性方面起到重要作用而引起关注,晶面影响光催化活性的根源值得深入研究.探讨单一晶面半导体光催化性能与暴露晶面之间的关系,从表面缺陷、内电场、表面原子结构和表面电子结构等方面揭示了半导体光催化剂形貌的变化导致性能的改变,利用晶面工程来指导设计更高性能的光催化剂方面具有重要的理论与现实意义，为合成优质光催化性能的光催化剂提供强有力的理论依据。
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