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辉光放电辅助激光沉积(200)-MgO/Si薄膜的研究
辉光放电辅助激光沉积(200)-MgO/Si薄膜的研究
来源 :第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ccc1A2B3C
【摘 要】
:
采用辉光放电辅助激光沉积法成功地在Si(100)下衬底上低温制备出(200)取向的MgO薄膜。实验表明,辅助以光放电可以明显地提高沉积速率和降低合成温度。同时,用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和透射电镜
【作 者】
:
符晓荣
黄继颇
多新中
【机 构】
:
科学院上海冶金所信息功能材料国家重点实验室(上海)
【出 处】
:
第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
辉光放电
辅助
激光沉积法
原子力显微镜
微观结构
透射电镜
射线衍射
合成温度
低温制备
沉积速率
薄膜
实验
取向
衬底
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采用辉光放电辅助激光沉积法成功地在Si(100)下衬底上低温制备出(200)取向的MgO薄膜。实验表明,辅助以光放电可以明显地提高沉积速率和降低合成温度。同时,用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和透射电镜(TEM)对薄膜的微观结构进行了分析。
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