SOI ESD保护器件研究

来源 :2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:duoduo5211314
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  本文具体分析了体硅SCR(晶闸管)和SOI SCR的抗静电特性,利用软件Sentaurus对埋氧层3μm.顶层硅1.5μm的SOI衬底上的SCR进行了工艺和性能仿真,仿真结果达到了4.5 kV的抗静电能力,符合目前人体模型的标准2 kV。研究发现,注入剂量(9×1013~8×1014cm-2)增加会引起触发电压减小,维持电压升高:Trench长度(0.8~1.1μm)增加,器件触发电压几乎不变,维持电压降低;场氧化层长度(2~4.5μm )增加,触发电压和维持电压均增加。
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采用系统集成技术把硅基MEMS惯性器件的敏感结构和专用处理电路集成在一起,即可减小寄生信号干扰,又可抑制有用信号的衰减,是进一步提高硅基MEMS惯性器件的关键技术。本文对硅基惯性器件的集成技术进行了探索研究,并提出了硅基惯性器件集成技术方案,介绍了兼容MEMS技术和SOC技术的中间硅通孔技术,对中间硅通孔技术的设计、工艺加工、以及封装等技术进行了研究,并进行了可行性分析。
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