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采用反应非平衡磁控溅射技术在青铜及Si(100)衬底上沉积不同负偏压(Vb)的纳米ZrNbAlN薄膜。薄膜结构及成分采用X射线光电子能谱及X......
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采用反应非平衡磁控溅射技术在青铜及Si(100)衬底上沉积不同负偏压(Vb)的纳米ZrNbAlN薄膜。薄膜结构及成分采用X射线光电子能谱及X射线......