TiSiN涂层相关论文
采用多弧离子镀技术在钢基体上沉积了Ti SiN涂层,研究了N2流量对TiSiN涂层的表面形貌和耐磨性能的影响。结果表明,随着N2流量的增......
采用多弧离子镀技术在钛合金基体表面制备了具有不同Si含量的TiSiN涂层.结果表明TiSiN涂层由非晶的Si3N和纳米晶TiN组成，随着Si含量......
采用脉冲电弧沉积技术制备了TiSiN涂层,研究了不同沉积参数(负偏压、靶电流及脉宽)对涂层结构和性能的影响。利用电子能谱仪、X射......
为了研究Si含量对TiSiN涂层性能的影响,采用多弧离子镀技术在Ti6Al4V表面制备了不同Si含量（质量分数）的TiSiN涂层。利用扫描电子显微......
简要介绍了TiSiN纳米复合涂层的晶体结构，主要从涂层的性能、制备方法、硅含量以及其它元素掺杂的影响等方面综述了TiSiN纳米复合涂......
通过射频磁控溅射在单晶硅（111）和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层。采用双靶溅射技术,保持Ti靶功率不变,改变Si靶的功......
为了探讨频率对硬质合金基体上TiN／TiSiN复合涂层组织结构及性能的影响，选择了几个不同频率来制备TiN／TiSiN复合涂层。研究结果表明：不......
采用工业用直流脉冲等离子体增强化学气相沉积（PCVD）法在硬质合金刀具材料上制备了TiN／TiSiN复合涂层。对比研究了TiN及不同温度制备......
采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)金属陶瓷基体上沉积了TiSiN涂层,用X射线衍射仪、扫描电镜、显微硬度仪和划痕仪等实验手段研究了基底......
采用高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)技术在N2流量为10~50 mL/min下沉积TiSiN涂层,利用台阶仪,XRD,XPS,SPM,SEM,HRTEM和纳米压痕仪对涂......
为了研究氮气气压对Ti Si N涂层显微结构与腐蚀行为的影响,采用自制多弧离子镀设备,在抛光的单晶(100)硅片与不锈钢基底上沉积Ti S......
TiSiN涂层以其极高硬度、优异的抗高温氧化性能和热稳定性性能,成为表面涂层领域的研究热点。本文采用电弧离子镀-中频磁控溅射复......
