NiCo薄膜相关论文
用磁控溅射方法制备了以Ta和非磁性(NiFe)Cr为缓冲层的NiCo薄膜,研究了它们的各向异性磁电阻效应.结果表明:用厚度为4.5nm的非磁性......
用磁控溅射方法制备了以Ta和非磁性(Ni0.81Fe0.19)66Cr34为缓冲层的Ni74Co26薄膜,研究了它们的各向异性磁电阻效应.结果表明:用厚......
用磁控溅射法制备了以NiFeCr和Ta分别为缓冲层的两种NiCo薄膜样品,在200、300、400℃温度下对两种样品退火.结果表明,不同的退火温......
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