CF4、NF3等全氟化合物（Perfluoro compounds）被广泛用作半导体工业的蚀刻气和清洗气,具有极高的温室效应潜值（GWP）,如CF4的GWP为CO2的6......

NF3是半导体工业大量使用的清洗气和蚀刻气，SF6是现阶段最佳的气体灭弧介质，两者均有较高的温室效应潜值（GWP），如SF6的GWP为22800，寿命约......

CF4、NF3等全氟化合物（Perfluoro compounds）被广泛用作半导体工业的蚀刻气和清洗气,具有极高的温室效应潜值（GWP）,如CF4的GWP为CO2的6......