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本实验采用离子束溅射的方法,在氧化硅衬底上制备了结构为Ta /Fe40Co60 /Cu/Ni/Ta多层膜.研究了Cu层厚度对多层膜巨磁电阻的影响。......
采用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了[Cu/CoPt]n/Ag薄膜,并在600℃退火30min。结果表明,Cu掺杂厚度(x)对CoPt薄膜的结构和磁性影响很......