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CuCoTaN速率选择性相关论文
GLSI铜互连阻挡层钴CMP中材料去除速率选择性研究
集成电路(IC)是实现当今社会智能化和信息化的基础,化学机械平坦化(CMP)是IC制造的关键工艺之一,是目前唯一能够实现全局和局部平......
学位
Cu/Co/TaN速率选择性
化学机械平坦化
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