高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)相关论文
基于高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电区域的粒子平衡和能量平衡,并考虑高功率密度下放电跑道上形成局部电势峰对离子流出的增强效......
氮化铝(AlN)薄膜在表面声波器件(SAW)中应用广泛[1],其表面形貌和微观结构对SAW 器件的性能有重要影响；而高功率脉冲磁控溅射(HiPIM......
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电可产生高密度、高溅射粒子离化率的等离子体，能够在基片表面获得高通量的靶材离子束流和自离子辅助......
高功率磁控溅射技术具有膜层致密、膜基结合力好以及薄膜均匀等优点,已经得到国际镀膜大公司(如Balzers,cemecon 等)以及学术界的......
现代加工制造业飞速发展,对加工材料刀具性能的要求越来越高,涂层刀具能够有效提高刀具加工质量,适应各种加工工况,并延长刀具使用......
氧化锌（Zn O）为宽禁带（3.37 e V）半导体材料,可以通过掺杂实现半导体到导体的电性变化,可用于制备透明导电薄膜和半导体薄膜。更为重要......
