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高介电质薄膜相关论文
ALD沉积HfO_2薄膜生长行为及其调控
采用原子层沉积(ALD)的方法,选择四二乙基氨基铪(TDEAH)和水作为反应前驱体,在p型(100)单晶硅衬底上制备了HfO_2高介电质薄膜。系......
期刊
薄膜生长
ALD
HfO_2
生长模式
高介电质薄膜
HfO2
原子层沉积
生长行为
薄膜
前驱
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