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为研究等离子体刻蚀中静电吸盘绝缘层结构对晶圆温度分布均匀性影响，建立了晶圆与静电吸盘三维传热模型，采用中心组合设计方法分析了......
在晶圆等离子刻蚀过程中,静电吸盘对调节和控制晶圆表面温度均匀性、保障晶圆加工质量起着重要作用。本文对静电吸盘的传热以及温......
在VLSI制造过程中,静电吸盘（ESC）以其良好的热传导性及较少的缺陷产生率已广泛应用于ETCH、CVD等制程中。文章以LAM Research公司TCP......
半导体设备中常用静电吸盘的原理，通过在LABVIEW软件中仿真得出设备最佳运行状态下的相关参数。分析单极和双极静电吸盘的模型建立......
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