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ＨＬ－１Ｍ装置运行期间，一直在探索适合本装置的壁处理技术，分别研究了硼化、硅化和锂涂覆技术。其中，硼化、硅化处理技术已经成熟，硅化已成为装......
用ＳｉＨ４与Ｈｅ混合气体辉光放电和真空室原位蒸锂并借助Ｈｅ辉放放电的等离子体气相沉积法，对ＨＬ－１Ｍ装置的内壁，分别进行硅化和锂涂覆。......
