铜CMP后清洗相关硕士博士期刊学术论文

硅溶胶等残留颗粒是铜CMP后清洗需要去除的沾污之一。在FA/OⅡ螯合剂的协同作用下,对比了八种表面活性剂和四种添加剂对铜表面颗粒......