表面热透镜技术相关论文
本文在用电子枪、离子辅助和离子溅射三种工艺分别制备出增透膜后,运用一系列测试手段,如干涉仪、表面热透镜技术、X射线衍射等,来......
干涉滤光片由于内部谐振场共振吸收特性，其激光破坏过程有别于全反膜而具有特殊的性质。本文从谐振场及温度场理论出发，计算得出了Zn......
该文报告了作者在基于比较薄膜制备手段、材料工艺参数以及膜系设计等方面因素所作的激光损伤实验和所得的相关结论;作者并在国内......
该文围绕光学薄膜的激光损伤的研究,提出了基于热力耦合破坏的温度场理论及其分析计算方法,研究了不同膜系结构温度场分布规律,以......
吸收损耗是衡量光学薄膜性能的重要指标之一。尤其在高功率激光作用下，吸收损耗不仅会引起光学薄膜元件的热畸变，影响激光传输特性，还......
在连续波强激光作用下,光学元件可以在短时间内遭到破坏,致使激光器件无法正常工作。光学元件遭到破坏的主要原因是光学元件的热损......
在薄膜的制备方面,目前有三大技术比较流行:电子枪(真空蒸发的主要方法)、离子辅助(离子镀技术)和离子束溅射(溅射技术的方法之一)......
对表面热透镜技术测量光学薄膜的微弱吸收进行了理论分析，并以此建立了薄膜微弱吸收测量实验装置，对几种典型薄膜的吸收进行了测试，证......
运用表面热透镜技术精确测量1315 nm高反射硅镜的弱吸收,并结合原子力显微镜所显示的薄膜表面情况判断引起吸收的原因,为工艺上减......
本文采用表面热透镜技术对10.6μm CO2激光辐照下的样品微弱吸收进行了研究,并对实验结果进行了分析.对10.6μm激光辐照下光学薄膜......
表面热透镜技术是一种灵敏的吸收测量方法。为了提高热透镜法的测量精度，必须优化测量系统参数。对表面热透镜法进行测量技术分析，根......
运用表面热透镜技术精确测量了1315nm高反射硅镜的弱吸收，判断引起吸收的原因，从而为工艺上减少吸收降低损耗提供了保证。......
采用表面热透镜技术,对3.8μm和2.8μm激光辐照下镀制在Si基底上的单层ZnS,YbF3和YBC薄膜及不同膜系的YbF3/ZnS多层分光膜和多层高......
在薄膜特性的研究工作中,激光引起的表面形变是一种广泛应用的技术.在这种技术中,薄膜的形变(热包高度小于0.1 nm)一般是采用光热......
建立了表面热透镜技术测量光学薄膜微弱吸收的实验装置,对10.6μm CO2激光辐照下镀制在Ge基底上的不同厚度的单层ZnS,YbF3薄膜,以......
激光技术的不断发展对光学元件的性能提出了越来越高的要求。尤其在高功率激光系统中,光学元件的吸收损耗是限制其进一步发展的一......
