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耐刻蚀性能相关论文
大气等离子喷涂(APS)制备Y2O3涂层的工艺优化及性能研究
在硅晶片的制造过程中,干法刻蚀是重要的环节之一。通常是利用等离子体来对晶圆进行轰击,同时活性原子或原子团与晶圆材料反应,生......
学位
大气等离子喷涂(APS)
Y2O3涂层
正交设计
工艺优化
显微组织
孔隙率
耐刻蚀性能
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