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用一种新型的等离子体浸没式离子注入技术(PIII),在Cr12MoV钢基体上制备了TiN膜,经XPS分析发现,膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3。对......
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采用新型等离子体浸没式离子注入技术,对Ti6Al4V合金进行氮离子注入.对注入层的成分、组织和性能的分析表明,注入层中氮浓度的分布......
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采用新型等离入体浸没式离子注入技术,对Ti6A14V合金进行氮离子注入,对注入层的成分,组织和性能的分析表明,注入层中氮浓度的分布具有类......
采用等离子体浸没式离子注入对45钢进行氮离子注入.对注入表层的成分、组织和性能进行了分析.研究结果表明:注入层的剖面氮浓度分......
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集成电路正在从微电子时代发展到微纳电子时代,现有的体硅材料和工艺正接近它们的物理极限,遇到了严峻的挑战,必须在材料和技术上......