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硅扩散涂层相关论文
硅烷CVD法在钢基体表面生成硅扩散涂层
采用硅烷(SiH4)直接分解的化学气相沉积技术(CVD),在钢基体表面生成硅扩散涂层.X射线衍射(XRD)分析表明硅扩散涂层的主要成分是铁......
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硅扩散涂层
气相沉积法
SiH4 Steel substrate Si diffusion coating Chemical vapor depo
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