直流负偏压相关论文
采用流体动力学方法建立了一种自洽的无碰撞射频直流偏压等离子体鞘层动力学模型．模型中考虑了极板直流负偏压对离子运动的影响，模拟......
利用直流-射频-等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜,采用原子力显微镜、Raman光谱、X射线光电子能谱、......
利用等离子体化学气相沉积系统,在射频源和直流负偏压源的双重激励下,保持射频功率、反应室气压、衬底温度、硅烷与氢气混合比以及......
基于本中心RF500型镀膜机,采用流体动力学方法建立了一种自洽的无碰撞射频直流偏压等离子体鞘层动力学模型。模型中考虑了极板直流......
在不同的直流负偏压下利用直流射频等离子体辅助化学气相沉积技术在单晶硅表面沉积得到了类金刚石薄膜,用拉曼光谱、红外光谱和原......
采用粒子网格(PIC)法与Monte Carlo碰撞(MCC)模型相结合的方法(PIC/MCC法),研究了在射频空心阴极放电系统中,负直流偏压(-10～-50 V)......
