电子束云纹相关论文
该文首次提出三镀层制作双频电子束云纹光栅的新工艺，文中对制栅工艺的原理、过程进行了探讨。本制栅工艺适用于制作0.1μm至25μm......
该文提出应用单镀层和双镀层光刻法制作电子束云纹光栅的新工艺，对电子束光刻制栅设备、电子束云的形成机理进行了介绍。作者成功地......
提出一种扫描电镜(SEM)扫描云纹法的相移新技术,通过SEM系统控制电镜电子束扫描线移动,对获取的云纹图像实现0-2π范围内的四步相......
文中就云纹干涉法,电子束云纹法,原子力云纹法,扫描电镜云纹法,聚焦离子束云纹测量微区变形的原理和适用性进行了讨论.应用1200线/......
