湿膜成像相关论文
随着微带电路工作频率的提高,MIC工艺精度已成为一个制约因素.本文介绍了新型湿膜抗蚀剂在提高MIC工艺精度中的作用;从结构和原理......
为更好实现微带电路设计人员设计意图,提高微带片光刻精度,本文介绍了使用新型湿膜抗蚀剂(Wet Film Photoresis)替代干膜抗蚀剂(Dry Fi......