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本文综述了酚醛-重氮萘醌正性抗蚀剂的溶解抑制机理，主要包括(1)分子间氢键作用机理；(2)偶联反应机理；(3)两步即静态、动态溶解抑制机......
光刻法的化学机理Photolithography Chemistry Basics光致成像技术在上世纪七八十年代就在PCB制造中应用了，并有书籍介绍，为了图形线......
文章是有关用于LCD的重氮萘醌系正性抗蚀剂的研究。本文采用线性酚醛树脂作为成膜树脂,在研究3,4,5-三羟基二苯甲酮、2,2’,4,4’-......
为了在体硅CMOS FinFET中用等离子体腐蚀精细凹槽图形,研究了将电子束直写曝光用于原为深紫外光学曝光的UV3正性抗蚀剂的工艺技术;......
