曝光间隙相关论文
本文的重点是研究厚光刻肢光刻图形之分辨率、边缘轮廓角与光刻肢厚度及曝光间隙之间的关系,并对实验研究结果作了较为详细的......
相对于常规光栅制造方法(如机械刻划和光学曝光等工艺)而言,连续辊压印技术更易实现低成本、连续和高效的大面积制造.高精度栅结构......
针对半球陀螺在研制流片时遇到的深腔内光刻难题，在现有条件下开展了深腔内光刻工艺实验。实验中将曝光间隙类比深腔深度，利用现有条......
在等离子显示屏制作中，采用平行光进行曝光，曝光时母版和玻璃基板的间隙对图形结果有一定的影响。本文以实例分析论述了曝光间隙对线......
论述曝光面积可达３３５．６ｍｍ×３５５．６ｍｍ（４″×１４″），套刻精度为±２μｍ，接近式（０～２５μｍ）液晶面版光刻机的新型工作台设计。......
