晶粒形状尺寸相关硕士博士期刊学术论文

介绍了直流磁控溅射制备cu薄膜时，溅射功率和玻璃基片温度等工艺参数的变化对薄膜织构的影响．靶材采用质量分数大于99．9％的铜靶，溅射室......