接触式光刻相关论文
通过分析器件工艺对大面阵长波碲镉汞芯片性能的影响,发现光刻工艺非均匀性累积进而显著影响碲镉汞芯片性能的现象。应用Matlab仿......
光刻在微制造过程中占据着举足轻重的地位,是在批量制造小尺寸半导体器件结构的关键瓶颈之一。半导体工艺工程师们需要尽可能准确......
在接近式光刻中，衬底上的光强分布主要是受掩模与衬底间的间隙引起的衍射影响。一般的模拟分析中，都是利用菲涅尔近似模型进行分析。......
