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微波板式PECVD设备相关论文

微波板式PECVD设备多晶硅片表面镀膜均匀性影响因素的研究

由于多晶硅片表面在不同晶粒之间的晶格取向、绒面特性,反射率等方面都存在较大差别,因此在多晶硅片表面制备的SiNx膜的均匀性较差......

期刊

多晶硅片 SiNx膜微波板式PECVD设备均匀性 polycrystalline silicon waferSiNx filmmicrowave plate

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