射频磁控共溅射相关论文
采用射频磁控共溅射方法和真空退火方法制备了GaAs/SiO纳米颗粒镶嵌薄膜.X射线衍射(XRD)实验结果表明了经高温退火的薄膜中形成了......
采用射频磁控共溅射方法和真空退火方法制备了GaAs/SiO纳米颗粒镶嵌薄膜.X射线衍射(XRD)实验结果表明了经高温退火的薄膜中形成了......
该论文研究了Ge-SiO半导体纳米颗粒镶嵌薄膜的制备技术、薄膜的微观结构和光吸收、光发射等光学性能.......
该文制备了Ag-MgF系列复合纳米金属陶瓷薄膜,系统研究了复合薄膜的组分、微结构、应力特性以及光学特性,并从实验上和理论上重点研......
应用射频磁控共溅射方法和真空退火方法制备了GaAs SiO2 纳米颗粒镶嵌薄膜 .X射线衍射实验结果表明 ,经高温退火的薄膜中形成了面......
应用射频磁控共溅射方法和真空退火方法制备了GaAs/SiO2纳米颗粒镶嵌薄膜.X射线衍射实验结果表明,经高温退火的薄膜中形成了面心立......
W03薄膜是发现最早,研究最为深入的无机电致变色(Electrochromism)材料,在智能窗、显示器件、太阳能电池等领域具有非常好的应用前......
