基片弯曲法相关论文
目的 比较Si和316L基片上TiN薄膜的微观结构和应力,分析基片材料和基片初始曲率对薄膜应力的影响.方法 采用电弧离子镀技术在Si基......
薄膜材料的应用愈来愈广泛,它的力学性能对膜基系统的服役行为影响很大,已成为一大研究热点.该文针对屈服强度、残余应力、杨氏模......
介绍了采用基片弯曲法来测定多层复合膜内应力的原理和方法。文中利用该法测定了离子镀铝青铜的多层复合膜和单层厚膜的内应力，分析......
基于基片弯曲法和牛顿环的基本原理,使用He-Ne激光器、扩束镜、凸透镜和带分光镜的移测显微镜·搭建了薄膜应力测量装置,采用......
有关薄膜应力的一般测量方法存在精度不高和不能实时测量的缺点.多层薄膜材料是在非平衡条件下制备的性能优异并包含高密度界面的......
