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囿于材料和工艺稳定性等原因,纳米级集成电路制造依然基于193 nm激发光的工艺,光刻波长远大于版图尺寸,使得制造中光的干涉和衍射......
可制造性设计技术使设计者尽早得到设计版图能否被制造的信息,以减少交流等待的时间.为此,提出一种可制造性模型,用一个或者多个卷......
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