本文采用 X 射线衍射分析（XRD）结合原子力显微分析（AFM）及高分辨电子显微分析方法（HRTEM）,研究了 β-FeSi2 薄膜的形成和生长以及 Fe/Si ......

采用反应沉积外延法在723K的Si （111）衬底上共沉积了的Ba/Si混合膜,通过时间控制得到不同厚度的混合膜,然后真空退火处理.X射线衍射......

β－ＦｅＳｉ２薄膜的反应沉积外延膜的剖面结构分析倪如山王连卫沈勤我林成鲁（中国科学院上海冶金研究所，上海２０００５０）由于β－ＦｅＳｉ２具有Ｅｇ＝０．８５０．８７ｅＶ的直接带隙，并能在硅表面......

采用离子束溅射Fe靶的方法在500～800℃的Si（111）衬底上制备出不同种类的铁硅化合物。当衬底温度为700℃时得到厚度为500nm的单相的β-......