化学气相淀积(CVD)相关论文
ZnS:Cu发光材料是目前应用最为广泛的交流粉末型电致发光(AC-EL)材料,其中关键技术之一是电致发光材料的老化问题.过去很长一段时......
用化学气相淀积方法在Si（100）衬底上外延生长了Ge组分最高约0．40的组分渐变的Si1-x-yGexCy合金薄膜，研究了生长温度等工艺参数的影响．结......
MB2（M=Ti,Zr,Hf）是ⅣB族过渡金属的硼化物,化学气相淀积（CVD）是制备MB2类薄膜材料和保护涂层的最有效技术之一。对MB2类材料CVD制备的......
SiC器件和其它半导体器件一样,材料的质量对于SiC器件的制备和性能具有非常重要的意义。高质量的SiC单晶是制备高性能SiC器件的基......
SiC材料的质量对于SiC器件的制备和性能具有非常重要的意义,高质量的SiC单晶是制备优良功率器件的基础本文在此背景下综述了国际上......
期刊
