低温外延生长相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

低温外延生长相关论文

低温外延生长应变SiGe材料研究

采用紫外光能量辅助化学气相淀积(UVCVD)方法,同时结合超高真空化学气相淀积(UHVCVD)及超低压化学气相淀积(ULPCVD)技术,在450℃低......

期刊

低温外延生长 SIGE材料化学气相淀积紫外光超高真空 SiGe material CVD Ultraviolet Ultra High Vacuum

看过本文同时还关注