以H2和CH4的混合气体为气源，用微波等离子体辅助化学气相沉积法（MPECVD）在1cm×,1cmSi（100）基体上沉积了金刚石薄膜。研究了不同的......

以H2和CH4的混合气体为气源,用微波等离子体辅助化学气相沉积法(MPECVD)在1 cm×1 cm S i(100)基体上沉积了金刚石薄膜。研究了不......