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[会议论文] 作者：齐臣杰,陈达,
来源：中国有色金属学会1993年砷化镓及有关化合物会议 年份：1993
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[会议论文] 作者：齐臣杰,皇甫鲁江,
来源：第九届全国半导体集成电路、中国有色金属学会硅材料学术会议 年份：1995
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[会议论文] 作者：齐臣杰,候或,刘理天,
来源：第六届全国敏感元件与传感器学术会议 年份：1999
该文采用微马达与光电二极管一起集成，组成光电测速系统。在马在转子下面集成几个光电二极管，利用反偏二极的暗电流和亮电流的变化来测量马达的转速。它提高了马达的测速范围，解......
[会议论文] 作者：齐臣杰,岳瑞峰,刘理天,
来源：第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议 年份：2001
本文报道了用ICP技术刻蚀出窄深槽结构.槽宽1～2.5μm,槽深7～25μm,刻蚀速率2μm/min,陡直度89度.该结构可以应用到MEMS和IC的隔离中....
[会议论文] 作者：王宏伟,张文凯,齐臣杰,齐木苏荣,
来源：2013高等院校工作研讨会(CETCU 2013) 年份：2013
针对目前国家对电类科技人才科技创新能力的需求，分析了高校电类大学生科技创新中存在的问题，提出了通过"大学生创新项目"建立能够提高学生科技创新能力的创新实践平台。......
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