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[会议论文] 作者：宗婉华;,
来源：第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会 年份：2001
本文采用RF反应磁控溅射技术,探索了新型难熔栅W/WN工艺制备技术.通过大量的工艺实验和SEM,XRD,SIMS,XPS等测试分析手段对影响WN,WN/GaAs特性的溅射条件进行了系统研究.揭示...
[会议论文] 作者：宗婉华,马振昌,
来源：第四届全国固体薄膜学术会议 年份：1994
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[会议论文] 作者：王永强,赵太平,秦国刚,马振昌,宗婉华,
来源：第十二届全国半导体物理学术会议 年份：1999
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