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Cu Films Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering Enhanced by ICP and External Magnetic Field Co
[期刊论文] 作者：齐雪莲,任春生,马腾才,王友年,,
来源：Plasma Science and Technology 年份：2008
Metallic copper(Cu) films were deposited on a Si (100) substrate by unbalancedmagnetron sputtering enhanced by radio-frequency plasma and external magnetic fie...
[期刊论文] 作者：吕博嘉,刘艳红,刘东平,刘爱民,刘韶华,马腾才,,
来源：真空 年份：2008
采用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜,利用X射线衍射谱、Raman散射谱、透射光谱和扫描电子显微镜等检测手段,系统地研究沉积过程中沉积气压对微晶硅薄膜晶粒尺寸、晶态比...
[期刊论文] 作者：宋振飞,秦颖,郝胜,武洪臣,吴平生,董闯,马腾才,
来源：真空科学与技术学报 年份：2008
采用了一维温度场模型，对强流（10A·cm^-2－40A·cm^-2）、脉冲时间（10μs－100μs）、电子束辐照热障涂层过程中的温度场进行了数值模拟。模拟结果显示：靶材表层迅速熔化（甚至汽......
[期刊论文] 作者：宫野,张建红,王晓东,吴迪,刘金远,刘悦,王晓钢,马腾才,,
来源：物理学报 年份：2008
利用拟合实验测得的TEMPⅡ型加速器磁绝缘二极管电压波形及其焦点附近束流密度曲线,建立了Gauss分布模型.采用Monte Carlo方法研究了强流脉冲离子束与铝材镀有不同厚度金膜的...
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