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[期刊论文] 作者：许宁,马家辉,刘琦,
来源：中国稀土学报 年份：2022
CeO2由于其适当的机械性能及高的化学活性,更重要的是其对Si3N4/SiO2的高选择性去除,使其被广泛应用于浅槽隔离化学机械抛光工艺中.本文论述了 CeO2基抛光液的抛光机制的研究进展,从CeO2磨料的形貌尺寸、晶体结构、力学性能方面分析了磨料性质对抛光性能的影响,......
[会议论文] 作者：马家辉, 许宁, 雒玉欣,
来源：第十四届中国包头·稀土产业论坛、中国稀土学会2022学术年会 年份：2022
氧化铈由于具有独特的物理、化学性质而作为一种重要的抛光材料被广泛研究[1]。大量实践和研究表明,CeO2抛光液对SiO2质材料（集成电路、显示面板、光学玻璃等）具有优异的抛光性能[2,3]。随着信息技术的发展,芯片和显示面板的需求量急剧增加,进一步提升平坦化效率......
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