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[期刊论文] 作者：蒋钊, 陈学康,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2008
薄膜应力普遍存在于薄膜元器件中,从而影响薄膜器件性能,限制了其良好的应用前景。所以控制薄膜的应力,消除其不良影响,是薄膜生产工艺中不可或缺的技术手段。本文对此详细阐...
[期刊论文] 作者：蒋钊,陈学康,,
来源：真空与低温 年份：2008
用直流溅射法在聚酰亚胺(PI)基底上制备了300 nm厚的Al膜,并进行快速退火(RTA)处理。用X射线衍射、扫描电子显微镜和曲率法对Al薄膜的微结构及应力随退火温度和时间的变化进...
[期刊论文] 作者：蒋钊，陈学康，JiangZhao，ChenXuekang,
来源：真空科学与技术学报 年份：2008
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