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[期刊论文] 作者：林栋梁, 张方, 黄惠杰,,
来源：光学精密工程 年份：2018
扫描狭缝是步进扫描光刻机中控制曝光剂量的重要单元,而扫描狭缝产生过大的刀口半影会影响曝光性能。首先,根据步进扫描光刻机照明原理,通过分析掩模面上光强分布与扫描狭缝...
[期刊论文] 作者：程伟林,张方,林栋梁,曾爱军,杨宝喜,黄惠杰,
来源：光学学报 年份：2018
提出了一种光刻机照明系统的多自由度均匀性校正方法。当照明光瞳的部分相干因子发生变化时,该方法的校正手指只需整体在光轴方向进行微调就能使照明光场的均匀性满足要求。仿真分析了校正手指的三维空间移动对照明光场均匀性的影响,并验证了该方法的高效性。......
[期刊论文] 作者：程伟林,张方,林栋梁,曾爱军,杨宝喜,黄惠杰,
来源：光学学报 年份：2018
提出了应用于光刻机照明系统照明光场均匀性的高精度校正方法,该方法通过优化手指阵列式均匀性校正器中校正手指前端的形状及其排布方式来提高校正能力和精度。仿真结果表明:当校正手指错开排布时,手指阵列式均匀性校正器的校正精度优于0.2%;当校正手指的前端有......
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