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[期刊论文] 作者:丁文革,于威,杨彦斌,张江勇,傅广生,, 来源:光谱学与光谱分析 年份:2006
采用螺旋波等离子体化学气相沉积(HWPCVD)技术制备了非化学计量比的氢化氮化硅薄膜,对所沉积样品及氮气环境中920℃退火样品的微观结构及键合特性进行了分析。Raman散射结果表明......
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