搜索筛选:
搜索耗时2.0446秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 143 篇相符的论文内容
发布年度:
[会议论文] 作者：干蜀毅,徐向东,洪义麟,刘颍,付绍军,,
来源：光学学报 年份：2006
真空紫外反射镜在分子、原子结构、宇宙物理、微纳米器件、生命科学等研究领域有着极其重要的应用。然而由于缺乏有效、稳定、连续的光源,国内真空紫外反射镜的研究基本处于...
[期刊论文] 作者：傅绍军,洪义麟,陶晓明,盛六四,张允武,
来源：中国科学技术大学学报 年份：1995
采用全息－离子束刻蚀微细加工技术在石英基板上成功地刻蚀出了１２００线／ｍｍ、闪耀角５°１０’的锯齿槽形闪耀光栅．对全息光刻、显影等掩模制作工艺和离子束刻蚀参数的控制等进行了讨论，还给出了......
[期刊论文] 作者：王劼,付绍军,朱向冰,洪义麟,徐向东,
来源：光子学报 年份：2004
变线距光栅是一种自消部分象差的光学元件。本文提出了用激光束检测变线距系数的理论模型。计算表明变线距光栅的衍射波与平面波的干涉条纹可以用于检测变线距系数.Variabl...
[期刊论文] 作者：冯德仁,郭宏,王相綦,郝浩,洪义麟,裴元吉,
来源：电工电能新技术 年份：2008
高压倍压整流器常常应用于电子帘加速器等系统的加速级中,如果倍压整流系统的馈入电压采用方波通过脉冲变压器初步升压再进行倍压整流,方波中包含的某些频率成份可能与由变压...
[期刊论文] 作者：王炜,裴珉,李永平,李涛,洪义麟,傅绍军,
来源：中国激光 年份：2004
研究了连续工艺衍射光学元件在实际系统中的宽容度问题,模拟了非理想入射波、系统非共轴以及焦面定位对均匀照明的影响,提出了系统定位精度的重要性,并为实际工程检测提供了...
[期刊论文] 作者：洪义麟,刘良保,周小为,徐向东,付绍军,,
来源：真空 年份：2008
在制作大尺寸厚基底衍射光学元件时,经常需要清除残余底胶,为此我们研制了大尺寸衍射光栅灰化装置.该装置可以在450mm×450mm(φ650mm)范围内产生均匀性良好的等离子体,通过...
[期刊论文] 作者：田扬超,傅绍军,洪义麟,阚娅,陶晓明,
来源：光学学报 年份：2004
ＬＩＧＡ技术被认为是制作微机械最有前途的方法，而ＬＩＧＡ技术较为关键的一步是深度同步辐射光刻．报道了深度同步辐射光刻的进展，刻蚀出了外圆直径为３８μｍ～３９μｍ，叶长约８μｍ，高约２５μｍ的扇叶状微结构元件．ｉｎＧｅｒｍａｎ：Ｌｉｔｈｏｇｒａｆｉｅ，Ｇａｌｖａｎｏｆｏｒｍｕｎｇ，ＡｂｆｏｒｍｕｎｇＦｉｇ．ＩＳＥＭｏｆＰＭＭＡｆａｎｅｔｃｈｅｄｂｙｄｅｅｐ＂ｅｔｃｈｓ－ｃ，ｎｔ’ｈｒｏｔｒｏｎｒａｄｉａｔｉｏｎｌｊｔｈｏｇｒａｐｈｙ参......
[期刊论文] 作者：韩正甫,洪义麟,傅绍军,石军岩,陶晓明,,
来源：科学通报 年份：1993
硅常温下的禁带宽度仅1.1eV,且是间接跃迁型半导体。这是困扰光电子学几十年的老问题,多年来人们想尽各种掺杂办法,均未达到理想的结果,Canham用电化学刻蚀的办法在单晶硅片...
[会议论文] 作者：徐向东,洪义麟,周洪军,霍同林,傅绍军,
来源：第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会 年份：2001
O反应离子刻蚀是微细加工领域图形转移、去除残余光刻胶和超细线产生的一种有效方法.本文介绍了O反应离子刻蚀在全息离子刻蚀衍射光栅制作中的应用,给出了实验结果....
[期刊论文] 作者：朱向冰,何世平,付绍军,徐向东,陈瑾,洪义麟,
来源：光学精密工程 年份：2002
变线距光栅在同步辐射装置、激光核聚变装置上有着广阔的应用前景,它的制作和检测方法尚未成熟,本文在介绍变线距光栅线密度变化规律的基础上,采用级数形式表达变线距光栅线...
[期刊论文] 作者：楼俊,徐向东,刘颖,洪义麟,付绍军,何世平,
来源：光学精密工程 年份：2006
简述了全息变间距光栅的几何理论，研究了不同记录参数情况下的刻线弯曲程度。给出了用于评价光栅刻线弯曲程度的表达式，并推导出了它的积分形式，使计算效率提高了2～3倍。结果表明......
[期刊论文] 作者：邱克强,刘正坤,徐向东,刘颖,洪义麟,付绍军,,
来源：物理学报 年份：2012
对光刻胶内光强分布进行了计算与模拟,结果表明,来自基底的反射光与入射光干涉,光强在垂直基底的方向上呈现强弱周期性变化,即驻波效应.进一步的分析与实验结果表明,随着基底...
[期刊论文] 作者：干蜀毅,周卿,徐向东,洪义麟,刘颍,付绍军,
来源：计量学报 年份：2010
将分形法引入光学表面粗糙度评价体系中，以克服常用表面粗糙度评价参数（如Rn、Rq、PSD）随取样点位置、取样长度而变化的弊端。用原子力显微镜（AFM）对样片表面进行测量，计算测量值的......
[期刊论文] 作者：田扬超,刘刚,洪义麟,郭育华,熊瑛,阚娅,,
来源：中国科学技术大学学报 年份：2007
介绍了国家同步辐射实验室二期建设的LIGA实验站，研究了同步辐射光发散角对深度同步辐射光刻精度的影响；对深度同步辐射光刻扫描台的精度提出了理论要求；报道了深度同步辐射光刻......
[期刊论文] 作者：徐向东,刘正坤,邱克强,刘颖,洪义麟,付绍军,
来源：光学精密工程 年份：2012
针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1 m Seya-Namioka 单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200 lp/mm Laminar光栅。首先,通过光刻胶灰化技术调节光刻...
[会议论文] 作者：董晓浩,高飞,黄志刚,赵飞云,洪义麟,徐朝银,
来源：第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会 年份：2003
在大尺寸光栅元件离子束刻蚀技术中,改善离子束流密度均匀性是研制离子束刻蚀系统的关键技术之一.通过简介6×66cm RF条形宽束离子源和测试其束流密度的空间分布,分析了影响...
[期刊论文] 作者：徐向东,刘颖,邱克强,刘正坤,洪义麟,付绍军,,
来源：物理学报 年份：2013
多层介质膜光栅是高功率激光系统的关键光学元件.为了满足国内强激光系统的迫切需求,首先利用考夫曼型离子束刻蚀机开展了HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅的离子束刻蚀实验研...
[期刊论文] 作者：洪义麟,傅绍军,陶晓明,黄文浩,褚家如,
来源：科学通报 年份：1995
...
[期刊论文] 作者：徐向东,刘正坤,邱克强,刘颖,洪义麟,付绍军,
来源：光学学报 年份：2011
国家同步辐射实验室新建了覆盖5~40 eV的低能区高分辨率角分辨光电子能谱光束线。其球面光栅单色仪包含了三块光栅，即300，600和1200 line/mm球面层式（Laminar）光栅。采用全息离子束刻蚀工艺，在硅光栅基片上成功地刻蚀出1200 line/mm、占空比0.35、槽深35 nm、有效刻......
[期刊论文] 作者：刘颖,徐德权,徐向东,周小为,洪义麟,付绍军,,
来源：中国科学技术大学学报 年份：2007
利用基于射频离子源的离子束刻蚀装置,分别以氩气、三氟甲烷为工作气体,初步研究了离子能量、束流和加速电压等条件对K9、石英、氧化硅薄膜、氧化铪薄膜这4种常用光学材料和...
相关搜索：
