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[会议论文] 作者：叶甜春,
来源：第四届中国国际集成电路产业展览暨研讨会 年份：2006
集成电路装备业已成为高技术装备产业的典型代表.中国正在成为世界集成电路制造业的重要区域,同时也将成为集成电路装备商争胜的焦点.相对于集成电路制造业,我国的集成电路制...
[期刊论文] 作者：杜国成,,
来源：中国集成电路 年份：2003
【正】 中国科学院是国家科学技术方面最高学术机构和研究中心,是中国规模最大的国立科研和研究生教育机构。中国科学院根据其"面向国家战略需求、面向世界科技前沿"的新时...
[期刊论文] 作者：陈炳欣,,
来源：集成电路应用 年份：2015
近年来,国际IC产业变化加快,几家龙头大厂不断增加资本投入力度,制程工艺也得到提升。与此同时,国内IC业因为"国家集成电路产业基金"(大基金)等的设立,受到业内外的广泛关注...
[期刊论文] 作者：封松林,叶甜春,,
来源：中国科学院院刊 年份：2010
回顾了物联网/传感网研究工作和概念的演进与变化,指出物联网/传感网即是带有传感/识别器的信息网络系统,用以实现智能感知和管理,同时论述了物联网的战略需求和作用、需解决...
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：半导体技术 年份：1998
分别从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机、光刻工艺、成本等七个方面择１９３ｎｍ与ｘ射线光刻技术进行了对比分析，介绍了目前它们的一些进展情况，并对它们的应用前景进行了简要分析。......
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：科技导报 年份：1999
为了跟踪世界先进同步辐射装置的研究水平，继北京第一代同步辐射装置和合肥第二代同步辐射装置相继建成后，我国决定建造储存环运行能量为３５ＧｅＶ的上海第三代同步辐射装置（ＳＳＲＦ）。作为我国......
[期刊论文] 作者：叶甜春,张绵,
来源：功能材料与器件学报 年份：2000
对同步辐射Ｘ射线光刻及在ＧａＡｓ ＰＨＥＭＴ器件制作中的应用进行了研究，并制作出栅长０．１５μｍ的ＡｌＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ ＰＨＥＭＴ晶体管。研究结果表明，Ｘ射线光刻在肃离图形册结构制作工艺中具有极好的光刻图形质量，在混合光刻工艺中......
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：微电子技术 年份：1999
目前看来，193nm光学光刻很有希望应用到0．13μm集成电路工业生产中去。本文从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机等方面对193nm光学光刻技术进行了分析，并介绍了它目前的一些......
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：半导体情报 年份：2001
半导体器件与集成电路的不断小型化要求特征尺寸越来越小,极端远紫外光刻是5种下一代光刻技术候选者之一,它的目标是瞄准70纳米及70纳米以下的特征尺寸光刻.本文从极端远紫外...
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：半导体情报 年份：2000
报道了我们制作深亚微米ｘ射线掩模的工艺和同步辐射ｘ射线曝光工艺，并报道了我们在北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）３Ｂ１Ａ光刻束线所获得的深亚微米ｘ射线光刻图形的实验结果。......
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：半导体情报 年份：1999
目前看来，１９３ｎｍ与ｘ射线光刻技术都很希望应用到０．１３μｍ ０．１３μｍ以下的集成电路工业中去，而掩膜笃这两种光刻技术而言是非常重要的．本文对１９３ｎｍ光学掩模与ｘ射线掩模制造技术进行了对比分析。......
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：半导体技术 年份：2000
对即将动工的上海第三代同步辐射装置及其主要参数作了介绍，叙述了目前同步辐射ｘ射一光刻和ＬＩＧＡ的一些技术进步情况，并对未来ＳＳＲＦ光刻实验珠应用前景作了简要分析。......
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：微细加工技术 年份：1999
目前看来，Ｘ射线光刻技术能否真正到０．１３μｍ及０．１３μｍ以下的集成电路工业中去晃刻技术工作者很关心的一个问题，分别从光源、曝光系统、掩模、光 刻胶、光刻机、光刻工艺、成本等七个方面对......
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：微细加工技术 年份：1997
同步辐射Ｘ射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置３Ｂ１Ａ光刻束线上的日光结果，并对Ｘ射线掩模的制作工艺作了简要介绍。...
[期刊论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：微细加工技术 年份：1997
利用Ｂｅａｍ Ｐｒｏｐａｇａｔｉｏｎ Ｍｅｔｈｏｄ（ＢＰＭ）方法研究了深亚微米同步辐射Ｘ射线光刻中的掩模吸收体的光导波效应，并且利用瑞利－索末非理论对光刻胶表现的空间像光强分布进行了计算。研究结果表明基尔霍夫边界条件不......
[会议论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：第九届全国电子束.离子束.光子束学术年会 年份：1997
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[会议论文] 作者：谢常青,叶甜春,
来源：第九届全国电子束.离子束.光子束学术年会 年份：1997
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[期刊论文] 作者：陈大鹏,叶甜春,
来源：核技术 年份：2004
作为当前集成电路制造的主流技术,光学光刻在趋近其分辨力极限的同时,面临着越来越大的挑战,即便在波前工程和分辨力增强技术的帮助下,光学光刻的分辨力也难以满足快速发展的...
[期刊论文] 作者：张振宇,叶甜春,,
来源：电子器件 年份：2009
为了解决商业GPS信号源价格昂贵、功能单一、参数不可控的缺点,提出了根据无线通信系统基带等效模型应用SIMULINK和S函数建立GPS信号源及多径信道仿真环境。以都市三态模型代替陆地移动模型,更准确地模拟了都市环境中普遍存在的镜面反射和附近建筑物散射。因篇......
[期刊论文] 作者：陈大鹏,叶甜春,,
来源：电子工业专用设备 年份：2006
微系统市场发展的巨大潜力吸引了众多的制造公司和研发机构参与其中，虽然现阶段微系统仍然面临着从设计仿真，到代工制造和封装等的一系列行业标准的缺乏问题，可供微系统选择的商......
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