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PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION ULTRALOW DIELECTRIC CONSTANT FILMS USING TRIETHOXYMETHYLSI
[会议论文] 作者：Zi-Jun Ding,Shi-Jin Ding,Wei Zhang, 来源：2016年上海市研究生学术论坛——电子科学与技术 年份：2016
Ultralow dielectric-constant (κ) porous SiCO(H) films were prepared using C7H18O3Si (MTES) and C 10H16 (LIMO) precursors by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and post-deposition anneal...
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