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[期刊论文] 作者：王长顺,潘煦,Urisu Tsuneo,,
来源：物理学报 年份：2006
利用热氧化法在硅晶片上生长SiO2薄膜,结合光刻和磁控溅射技术在SiO2薄膜表面制备接触型钴掩模,通过掩模方法在硅表面开展了同步辐射光激励的表面刻蚀研究,在室温下制备了SiO...
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