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[期刊论文] 作者：辛永库,
来源：江南半导体通讯 年份：1991
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[期刊论文] 作者：辛永库,
来源：微电子技术 年份：1998
莫托洛拉从DRAM事业中撤退重点生产SRAMfDEEPROM据莫托洛拉公司1997年发表的报告指出，到1997年末，将从DRAM事业中撤退出来。该公司与东芝和西门子组成了合资企业。从DRAM事业中...
[期刊论文] 作者：辛永库,
来源：微电子学 年份：1983
多层布线技术既是个老问题同时也是个新问题。从布线设计的自由度等方面来看,以往对多层布线的重要作用就有所认识,并且作了很多的研究工作。不过,以往在这方面的研究工作是...
[期刊论文] 作者：辛永库,
来源：微电子学 年份：1984
各种半导体制造设备费用 表】各种半导休工艺制治设备费用预测(单位:亿日元,()内%)一rt?:f{:1:---------uru------------lertal******erethethethelerthethe-[l:1}f---------...
[期刊论文] 作者：Shear.D,辛永库,
来源：微电子学 年份：1989
单片集成12～16位A-D转换器作为一种通用产品,已陆续出现在美国市场上。在视频图象上用的高速领域中,现以开发串并联式的产品为主;在音频和声频以及在低频用的高分辨率领域中,...
[期刊论文] 作者：David Shear,辛永库,
来源：微电子学 年份：1989
单片集成12～16位A-D转换器作为一种通用产品,已陆续出现在美国市场上。在视频图象上用的高速领域中,现以开发串并联式的产品为主;在音频和声频以及在低频用的高分辨率领域中,...
[期刊论文] 作者：铃木纯,辛永库,
来源：微电子学 年份：1977
半导体工业就其整个经济动向来看时起时伏,但总的来说还是不断向前发展的。予计在今后5年间将增长两倍左右。发展的中心是集成电路,特别是以计算机系统为中心的半导体存储器...
[期刊论文] 作者：稻田太郎,辛永库,
来源：微电子学 年份：1980
在由离子注入的杂质掺杂,电极金属材料的烧结等半导体器件制作工艺中,退火是其重要的工艺之一。在半导体工艺技术的研究中,进行了大量的技术革新,并发展了许多新技术,这对现...
[期刊论文] 作者：冯庆瑞,辛永库,
来源：微电子学 年份：1990
台湾的IC工业已开始从劳动力密集型向技术密集型迅速转化。以面向交换机、个人计算机为中心的IC设计业务非常兴旺,促使芯片制造厂家陆续建立,生产能力急剧扩大。过去以便宜的...
[期刊论文] 作者：马场文雄,辛永库,
来源：微电子学 年份：2004
目前,MOS动态存储器的开发速度相当迅速,1K位存储器发表以来约3年的时间,集成度已提高了4倍。64K存储器也不例外,本公司(富士通公司)于1978年开发了双电源(7V,—2.5V)的MB81...
[期刊论文] 作者：本间明,辛永库,
来源：微电子学 年份：1983
富士通公司开始外销门阵列电路至今业已五年了。最初是TTL200门的小规模产品，其手增加了CMOS门阵电路770，1275，2000，39000，8000门，TTL门阵列500,200门,目前已有速度改进型的4个双极...
[期刊论文] 作者：佐藤元治,辛永库,
来源：微电子学 年份：1985
前言 本文以半字节方式功能的MCM6257型(照片1)存储器为中心,详细地介绍了莫托洛拉公司制造的256k位动态随机存取存储器。MCM6257型动态RAM与带有页码方式功能的MCM6255型动...
[期刊论文] 作者：平间恒,辛永库,
来源：微电子学 年份：1982
对于硅片来说,当在其上制作出集成电路芯片以前,一面要在硅片上复盖各种物质,一面将根据需要再度分步清除。作为复盖在硅片上的物质主要有下面几种:二氧化硅(氧化膜),SixNy(...
[期刊论文] 作者：藤津隆夫,辛永库,
来源：江南半导体通讯 年份：1991
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[期刊论文] 作者：成水元次郎,辛永库,
来源：微电子学 年份：1982
导致电气通信系统变革的主要原因是由于半导体大规模集成电路的引入。考虑到这种大规模集成电路对电气通信系统的发展有着积极的促进作用,武藏野电气通信研究所从1975年开始...
[期刊论文] 作者：木田浩二,辛永库,
来源：微电子学 年份：2004
前言 半导体集成电路(IC)技术的出现,至今已有20多年的历史了。在这二十年期间,一方面通过提高集成度寻求高性能化,使集成电路技术由中规模(MSI),大规模(LSI)进一步发展为超...
[期刊论文] 作者：饭塚哲哉,辛永库,
来源：微电子学 年份：1983
在最近十多年中,MOS存储器大体上以一定的速度持续地向着大容量化的方向发展。对于动态存储器来说,在产品水平上从1970年的1K位迅速发展到1982年的256K位。由此可见,集成度...
[期刊论文] 作者：原田光,辛永库,黄子伦,
来源：微电子学 年份：1984
前言日本的半导体工业,由于具有优秀的半导体制作技术和相当的技术革新潜力,因而在世界上名列前矛。目前,64K位的超大规模集成电路业已步入工业生产阶段,正在进行256K至1M位...
[期刊论文] 作者：前田和夫,李世兴,辛永库,
来源：微电子学 年份：2004
揭开大规模集成电路序幕的1K位金属—氧化物—半导体随机存取存储器占领市场以来,已经过了十个年头。可以说,一九八○年也是回顾这十年中各项技术的发展变化的重要时刻。在...
[期刊论文] 作者：矢元,久良,李世兴,辛永库,
来源：微电子学 年份：1981
近来,由于微细加工技术的进展,半导体器件的高集成化正迅速发展,每块芯片内集成的门数不断增加,并实现了短沟道化。这样,提高半导体器件的可靠性则日益成为重要课题。特别是...
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