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[期刊论文] 作者：史淑艳,马博,薛梦瑶,申浩阳,贾里哈斯,孙纳纳,周大雨,
来源：材料科学与工艺 年份：2022
微电子器件的迅速发展对TiN电极薄膜电阻率、表面粗糙度以及厚度均匀性均提出了更高的要求。本文采用半导体工艺兼容的反应磁控溅射技术在单晶硅上制备TiN薄膜。通过XRR、GIXRD、四探针测试仪和AFM等表征手段系统研究了衬底偏压、工作气压和溅射电源对薄膜晶体......
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