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[学位论文] 作者：袁景梅,
来源：中国科学院上海光学精密机械研究所 年份：2003
该文采用电阻热蒸发和电子束热蒸发的方法,通过在石英基底上制备材料的单层膜,用光度学方法首次比较全面系统地计算出了应用于紫外波段的五种氧化物和七种氟化物在200nm到200...
[期刊论文] 作者：袁景梅,贺洪波,易葵,邵建达,范正修,
来源：中国激光 年份：2004
采用直升式和阶梯式加热法对电子束热蒸发镀制出的HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2多层膜进行了400℃的退火处理,发现采用阶梯式加热法退火后多层膜在190～300 nm范围内的峰值反射率均得到...
[期刊论文] 作者：袁景梅,王倩,陈瑶,黄升虹,方雨竹,
来源：合作经济与科技 年份：2021
在关于校园垃圾分类调查中,我们发现现行垃圾分类存在监督和规范不足的现象。对此,应当着力于垃圾分类处理的后续跟踪,派遣专业人员进行监管。这样,垃圾分类政策才能更有活力地推行开展。......
[期刊论文] 作者：袁景梅,范瑞瑛,杨健,邵建达,范正修,
来源：光学学报 年份：2004
用两种不同纯度的HfO2 材料与同一纯度的SiO2 材料组合 ,沉积λ/ 4规整膜系 (HL) 11H形成 2 6 6nm的紫外反射镜 ,发现反射率相差 0 .7%左右。用X光电子能谱法分析了高反膜中...
[期刊论文] 作者：袁景梅,汤兆胜,易葵,邵建达,范正修,
来源：中国激光 年份：2004
由单层HfO2,SiO2,Y2O3,Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2的193nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行镀制。由分...
[期刊论文] 作者：袁景梅,易葵,齐红基,范正修,邵建达,
来源：中国激光 年份：2004
193nm光学薄膜是 10 0nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响...
[期刊论文] 作者：袁景梅,汤兆胜,齐红基,邵建达,范正修,
来源：光学学报 年份：2003
分别采用电阻热蒸发和电子束热蒸发的方法 ,在石英基底上制备了十几种用于紫外光区的氧化物和氟化物单层膜 ,通过测其在 2 0 0～ 2 0 0 0nm波段内的透射率 ,计算出了这些膜材料...
[期刊论文] 作者：齐红基,程传福,袁景梅,邵建达,范正修,
来源：光学学报 年份：2003
用离子束溅工艺在K9玻璃基片上沉积Ti薄膜,并用原子力显微镜对其表面形貌进行测量,通过数值相关运算,发现在此工艺条件下薄膜生长界面为各向同性的自仿射分形表面,并用粗糙指...
[期刊论文] 作者：袁景梅,齐红基,赵元安,范正修,邵建达,
来源：ChineseOpticsLetters 年份：2008
The impurities in two kinds of HfO2 materials and in their corresponding single layer thin films were determined through glow discharge mass spectrum technology and secondary ion mass spectrometry (SIMS) equipment respectively. It was found......
[期刊论文] 作者：齐红基,程传福,袁景梅,邵建达,范正修,黄立华,
来源：光学学报 年份：2003
利用反应离子束溅射、反应磁控溅射和电子束蒸发在K9基底上沉积ZrO2 薄膜 ,并用原子力显微镜对薄膜表面形貌进行测量。通过数值相关运算 ,对不同工艺条件下薄膜生长界面进行...
[期刊论文] 作者：QI Hong-Ji(齐红基),HUANG Li-Hua(黄立华),YUAN Jing-Mei(袁景梅),CHENG Chuan-Fu(程传福),SHAO Jian-Da(邵建达),FAN Zheng-Xiu,
来源：中国物理快报（英文版） 年份：2003
The growth front evolution of ZrO2 thin films deposited by electronic beam evaporation has been studied with atomic force microscopy. The dynamic scaling charac...
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