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[期刊论文] 作者：范正修,,
来源：光学学报 年份：2011
对光学薄膜的性能及制备技术等方面进行了简要的评述,并指出随着科学技术的进步,光学薄膜及相关技术不论从广度还是深度来看都得到了显著发展。...
[期刊论文] 作者：范正修,,
来源：激光与光电子学进展 年份：1987
用气相化学沉积法制备薄膜的过程,包括薄膜制备工艺本身和制备高纯度易挥发的原始材料(有机化合物,氢化物和卤化物)以及有关化学动力学和催化剂等理论问题的研究。对气相化...
[会议论文] 作者：范正修,
来源：中国光学学会85年光学薄膜学术讨论会 年份：1985
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[期刊论文] 作者：范正修,
来源：激光与光电子学进展 年份：1985
对短于360亳微米波长的光学薄膜的需求，在薄膜的设计和生产方面形成了困难，但是可以克服的问题。...
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：中国激光 年份：1983
在Beckmann表面散射的基础上求出多层介质膜的角散射公式,计算了21层TiO2/SiO2反射膜对不同波长的角散射。...
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：中国激光 年份：1981
对光学薄膜的表面散射、体散射和吸收这三个损耗因素进行系统的分析和计算,并在它们都存在的条件下,计算了光学薄膜的反射率、透过率和损耗率.由于计算程序考虑了各种因素对光学薄膜的影响,所以计算模型和计算方法比一般的方法有更多的普遍性.文中给出11层ZnS/M......
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：光学学报 年份：2011
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[期刊论文] 作者：范正修,
来源：中国激光 年份：1982
在薄膜破坏中起主要作用的是个别的脉冲尖峰。分析了薄膜结构对薄膜受破坏的影响,以及SiO2保护膜在提高ZrO2/SiO2膜的抗激光强度中的作用。...
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：激光与光电子学进展 年份：1984
光学薄膜需要量的急剧增加引起了真空设备制造商的注意。其结果是出现了一类新型自动化设备,使镀膜过程加速，并改善了最终产品的质量。...
[期刊论文] 作者：龚辉,范正修,
来源：光学学报 年份：2002
利用电子回旋共振 (ECR)微波增强化学气相沉积法 (PECVD)并使用氮气 (N2 ) ,氩气 (Ar)和AlCl3蒸气作为气源在直径为 6 .35cm的 (10 0 )单晶硅片表面制备了c轴定向氮化铝 (AlN...
[期刊论文] 作者：范正修, 魏朝阳,,
来源：激光与光电子学进展 年份：2009
概括介绍了高功率激光系统光学薄膜的种类及特点,详细阐述了高功率激光薄膜研究进展,并对高功率激光薄膜的研究趋势进行了展望。...
[期刊论文] 作者：赵强,范正修,
来源：光学学报 年份：1996
考虑光学薄膜中界面吸收的影响，提出了模拟界面吸收层模型，并对各种膜系的温度场进行了分析计算，文中对样品激光损伤的光热偏转实时观察结果支持了这一模型。...
[期刊论文] 作者：贺洪波,范正修,
来源：光学学报 年份：1998
用反应式射频磁控溅射方法制备了纯氧化锌（ＺｎＯ）薄膜和掺Ａｇ的ＺｎＯ气敏光学传感薄膜。测量了这些薄膜在ＮＯｘ气体中的透射光谱，然后由透射光谱获得了灵敏度的变化规律，发现掺Ａｇ后的ＺｎＯ薄膜对ＮＯｘ气体的灵敏......
[期刊论文] 作者：范正修,罗兴华,
来源：光学学报 年份：1984
用X-射线电子能谱仪对TiO_2光学薄膜的组分和价态进行分析.为了避免静电效应引起的ESCA谱峰移动,需要将TiO_2薄膜淀积在Si基体上.可以看出,不论是有吸收的还是透明的TiO_2膜,其主要成分都是TiO_2,在有吸收的TiO_2薄膜中,部分TiO_2已分解为钛的低价氧化物.TiO_2......
[期刊论文] 作者：范瑞瑛,范正修,
来源：第十一届全国薄膜学术交流会 年份：2001
论述了薄膜应力在强激光薄膜应用中的重要性,分析了应力的形成原因及沉积参数、老化条件的关系,给出了应力的简单测试方法及部分结果....
[期刊论文] 作者：范正修, 钱伟珍,,
来源：光学学报 年份：2004
运用负滤光片的组合,对具有复杂光谱曲线的光学薄膜进行自动合成。为了克服个别负滤光片之间的多次反射形成的光谱曲线崎变,在负滤光片中间插入若干匹配层,并用统计试验方法...
[期刊论文] 作者：范正修,汤雪飞,
来源：光学学报 年份：1995
提出了光学薄膜温度场的概念，研究分析了薄膜光学性质和热，物性质对其温度场的影响，给出了相变光盘薄膜和高功率激光反射膜的具体设计，还给出了相变膜的写入，擦除功率和激光反射膜......
[期刊论文] 作者：王明利,范正修,
来源：中国激光 年份：1996
报道了反应溅射沉积ＴｉＯ２薄膜，得到ＴｉＯ２薄膜的特性如沉积速率、透射率、导电性能、吸收系数等与反应气体的流量、溅射功率有关。通过控制氧气的流量，得到具有良好导电性能和一定吸收的特......
[期刊论文] 作者：范正修,薛松生,
来源：光学学报 年份：1989
TeSeIn是一种可逆光存贮介质.分别用单源热蒸发和磁控溅射制备TeSeIn膜.利用透射电镜(TEM)研究了膜的结构和微观形貌.利用俄歇剖面技术(AES-PRO)给出了膜的组分深度剖面,分析了TeSeIn记录介质膜与ZnS保护膜界面间的互扩散大小.利用X光电子能谱(XPS)分析了组元深......
[期刊论文] 作者：范正修,何朝玲,
来源：中国激光 年份：1989
报道了用磁控溅射制备氮化铝薄膜的工艺过程和实验结果.给出了氮化铝薄膜的光学常数与氩气、氮气压强之间的关系.结果表明,氮化铝薄膜的光学性质,很大程度上取决于氮气和氩气之间的压强比.......
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