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[期刊论文] 作者：范正修,,
来源：光学学报 年份：2011
对光学薄膜的性能及制备技术等方面进行了简要的评述,并指出随着科学技术的进步,光学薄膜及相关技术不论从广度还是深度来看都得到了显著发展。...
[会议论文] 作者：范正修,
来源：中国光学学会85年光学薄膜学术讨论会 年份：1985
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[期刊论文] 作者：范正修,,
来源：激光与光电子学进展 年份：1985
光学干涉膜专题会议作为美国光学协会应用光学春季会议的一部份于1984年4月17～19日在加里福尼亚州蒙特里召开。光学干涉膜是一个规模虽小却有一群科学家和工程师致力研究的专...
[期刊论文] 作者：范正修,,
来源：激光与光电子学进展 年份：1987
用气相化学沉积法制备薄膜的过程,包括薄膜制备工艺本身和制备高纯度易挥发的原始材料(有机化合物,氢化物和卤化物)以及有关化学动力学和催化剂等理论问题的研究。对气相化...
[期刊论文] 作者：范正修,,
来源：激光与光电子学进展 年份：1985
美国光学协会1984年春季会议开了两天半的光学制造和检验专题讨论会,它于1984年4月18～20日在加里福尼亚州的蒙特里举行。该会议涉及这个专题的许多方面、包括光学范围内的标...
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：光学学报 年份：2011
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[期刊论文] 作者：范正修,
来源：激光与光电子学进展 年份：1984
光学薄膜需要量的急剧增加引起了真空设备制造商的注意。其结果是出现了一类新型自动化设备,使镀膜过程加速，并改善了最终产品的质量。...
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：中国激光 年份：1983
在Beckmann表面散射的基础上求出多层介质膜的角散射公式,计算了21层TiO2/SiO2反射膜对不同波长的角散射。...
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：中国激光 年份：1981
对光学薄膜的表面散射、体散射和吸收这三个损耗因素进行系统的分析和计算,并在它们都存在的条件下,计算了光学薄膜的反射率、透过率和损耗率.由于计算程序考虑了各种因素对光学薄膜的影响,所以计算模型和计算方法比一般的方法有更多的普遍性.文中给出11层ZnS/M......
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：中国激光 年份：1982
在薄膜破坏中起主要作用的是个别的脉冲尖峰。分析了薄膜结构对薄膜受破坏的影响,以及SiO2保护膜在提高ZrO2/SiO2膜的抗激光强度中的作用。...
[期刊论文] 作者：范正修,
来源：激光与光电子学进展 年份：1985
对短于360亳微米波长的光学薄膜的需求，在薄膜的设计和生产方面形成了困难，但是可以克服的问题。...
[期刊论文] 作者：龚辉,范正修,
来源：光学学报 年份：2002
利用电子回旋共振 (ECR)微波增强化学气相沉积法 (PECVD)并使用氮气 (N2 ) ,氩气 (Ar)和AlCl3蒸气作为气源在直径为 6 .35cm的 (10 0 )单晶硅片表面制备了c轴定向氮化铝 (AlN...
[期刊论文] 作者：范正修, 魏朝阳,,
来源：激光与光电子学进展 年份：2009
概括介绍了高功率激光系统光学薄膜的种类及特点,详细阐述了高功率激光薄膜研究进展,并对高功率激光薄膜的研究趋势进行了展望。...
[期刊论文] 作者：周东平,范正修,
来源：红外与毫米波学报 年份：1996
利用光热偏转技术对红外窗口材料进行了激光损伤实时研究，通过对硅片，加半反保护膜的硅片和加全反保护膜的硅片的损伤过程的研究，发现介质保护膜能大大提高硅窗口的激光损伤阈值......
[期刊论文] 作者：赵强,范正修,
来源：强激光技术进展 年份：1995
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[期刊论文] 作者：付雄鹰,范正修,
来源：强激光与粒子束 年份：2000
采用水中抛光技术抛制了９０ｍｍ×６０ｍｍ×１０ｍｍ的Ｋ９玻璃基片，表面粗糙度达１ｎｍ。在ＡＰＳ１５０４镀膜机上，摸索了电子束蒸膜的最佳工艺条件，较稳定地大该超光滑玻璃表面上镀制了对波长１０５４ｎｍ、入射角４５°反射率Ｒ≥......
[期刊论文] 作者：付雄鹰,范正修,
来源：强激光与粒子束 年份：1999
研究ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀金属Ｈｆ的源材料形成ＨｆＯ２薄膜。采用这三种工艺制备了ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜，在中......
[期刊论文] 作者：范正修,胡海洋,
来源：强激光与粒子束 年份：1999
为提高激光薄膜的抗激光强度，实验研究了薄膜新材料、镀膜基体的表面粗糙度和洁净度，薄膜中的杂质污染，镀膜后的热处理，以及小光斑扫描光预处理对薄膜的损耗和抗激光强度的影响。......
[期刊论文] 作者：贺洪波,范正修,
来源：传感技术学报 年份：1999
用射频磁控溅射方法制备了纯氧化锌（ＺｎＯ）薄膜和掺Ａｇ、掺Ｐｔ与掺Ｐｄ的ＺｎＯ三种气敏光学薄膜。测量了这些薄膜在ＮＯｘ气体中的透射光谱，然后由透射光谱获得了灵敏度的变化规律，并用吸附平衡关系式解释了......
[期刊论文] 作者：贺洪波,范正修,
来源：光电子技术 年份：1999
通过改变工作气压、溅射电流、氩氧比等工艺参数，较为系统地探索了用反应式直流磁控溅射法制备ＺｎＯ薄膜的工艺条件，并采用ＸＲＤ和ＡＥＳ对这些薄膜的结构特性进行测试分析，成功地得到了具有ｃ轴择......
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